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    嘉實(shí)動(dòng)態(tài)

    知識課:光刻機——中國半導體產(chǎn)業(yè)的“微雕革命”

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    從另一個(gè)維度看:世界是由無(wú)數的0和1組成。

    芯片,作為處理這些海量0與1字符串數據的核心,其內部結構是由幾百萬(wàn)甚至幾十億個(gè)晶體管構成的復雜網(wǎng)絡(luò )。

    1961年,Fairchild(仙童公司)第一款芯片上只有4個(gè)晶體管。2024年,國際固態(tài)電路大會(huì )(ISSCC 2024)上,臺積電正式公布了先進(jìn)封裝技術(shù),該技術(shù)有望將晶體管數量從目前的1000億個(gè)提升到1萬(wàn)億個(gè)。

    從4到1萬(wàn)億,更強大的計算能力,卻只需要更低的運算成本,這或許正是摩爾定律的魅力所在。

    而維持摩爾定律的關(guān)鍵,正是光刻機。

    光刻機:芯片界的“微雕藝術(shù)家”

    想象一下,用筆在紙上繪制出僅頭發(fā)絲萬(wàn)分之一粗細的圖案,這需要極其精細的技藝和穩定的心神。光刻機正是在納米尺度上進(jìn)行這種精細創(chuàng )作的“藝術(shù)家”。光刻機利用激光作為“畫(huà)筆”,在硅片上“繪制”出復雜的電路圖案,其原理類(lèi)似于童年時(shí)代的陽(yáng)光印刷,通過(guò)光線(xiàn)的穿透和遮擋,將設計圖案精準地轉移到硅片上。

    光刻工藝是半導體制造中最為關(guān)鍵的環(huán)節之一,它通過(guò)圖形轉移技術(shù),為芯片的制造奠定了基礎。

    1)首先,晶圓經(jīng)過(guò)涂膠顯影設備的預處理,如脫水烘焙,在表面涂覆光刻膠,并進(jìn)行軟烘干;

    2)然后,晶圓被送入光刻機,經(jīng)過(guò)精確的掃描對準,光線(xiàn)透過(guò)掩膜版對光刻膠進(jìn)行曝光,形成所需的圖案;

    3)最后,晶圓返回涂膠顯影設備,通過(guò)顯影液處理,使曝光區域的光刻膠溶解,形成電路圖案,隨后進(jìn)行硬烘干和后續的刻蝕或離子注入工藝,完成整個(gè)光刻過(guò)程。


    光刻工藝不僅在芯片生產(chǎn)流程中占據核心地位,而且光刻機本身也是技術(shù)的集大成者。

    從成本角度來(lái)看,光刻工序在整個(gè)集成電路制造過(guò)程中占有重要比重,通常需要進(jìn)行20至30次,占總成本的30%,且耗費的時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的40%至60%。

    高技術(shù)壁壘下的“三國演義”市場(chǎng)格局

    目前,全球光刻機市場(chǎng)由ASML、Nikon和Canon三家公司主導,形成了高集中度的市場(chǎng)格局。2023年,這三家公司的光刻機銷(xiāo)售量分別為449臺、45臺和187臺,總計681臺,顯示了它們在市場(chǎng)上的主導地位。

    EUV(極紫外)光刻技術(shù)作為市場(chǎng)上最先進(jìn)的光刻技術(shù),能夠制造7nm及以下工藝的芯片。ASML作為全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機的公司,其技術(shù)領(lǐng)先地位為市場(chǎng)帶來(lái)了新的增長(cháng)點(diǎn)。同時(shí),其他光刻技術(shù)如ArF浸沒(méi)式光刻、多鏡頭投影光學(xué)系統等也在不斷發(fā)展,為市場(chǎng)提供了多樣化的選擇。

    市場(chǎng)數據統計顯示,2018至2022年間,三大光刻機供應商的營(yíng)收總額從123億美元增長(cháng)至198億美元,年復合增長(cháng)率(CAGR)達到了13%。預測數據指出,2017至2026年,全球光刻機市場(chǎng)規模將從約83億美元增長(cháng)至約310億美元,年復合增長(cháng)率(CAGR)大約為15.8%,總體呈上升趨勢。

    數據來(lái)源:Gartner,《半導體制造光刻機發(fā)展分析》,平安證券研究所

    創(chuàng )新驅動(dòng)著(zhù)芯片需求的增長(cháng)。隨著(zhù)人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、5G通信、自動(dòng)駕駛等新興技術(shù)的快速發(fā)展,對高性能芯片的需求不斷攀升。這些技術(shù)對芯片的計算能力、功耗和集成度提出了更高的要求,推動(dòng)著(zhù)半導體技術(shù)的持續進(jìn)步。

    芯片產(chǎn)業(yè)的供應鏈錯綜復雜,涉及全球范圍內的合作與分工。一顆芯片的誕生,可能始于加州或中國的工程師團隊,他們或使用美國設計軟件,根據英國公司提供的藍圖進(jìn)行設計。設計完成后,可能在中國臺灣的工廠(chǎng)進(jìn)行生產(chǎn),該工廠(chǎng)從日本采購超純硅片及特殊氣體,利用荷蘭公司制造的光刻機,將設計精準地刻畫(huà)在硅片上。這些高性能芯片在東南亞完成封裝與測試后,被運往全球各地,應用于手機、電腦、汽車(chē)等多種產(chǎn)品。

    芯片,已成為現代生活不可或缺的一部分。

    國產(chǎn)光刻機的漫長(cháng)征程

    在全球光刻機市場(chǎng)中,中國正逐漸成為一股不可忽視的力量。多年來(lái)的不懈努力,使得中國光刻機技術(shù)取得了顯著(zhù)進(jìn)步。2019年,上海微電子成功研發(fā)出我國首臺分辨率達到28納米的國產(chǎn)光刻機,打破了國際巨頭在高端光刻機市場(chǎng)的壟斷。在光刻機產(chǎn)業(yè)鏈上游,中國也取得了關(guān)鍵性的突破,尤其是在雙工件臺、光源和光學(xué)鏡頭等關(guān)鍵子系統方面。


    這些突破不僅為中國半導體產(chǎn)業(yè)注入了新的活力,也為全球光刻機市場(chǎng)帶來(lái)了新的競爭力量。嘉實(shí)基金大科技研究總監王貴重指出,半導體有很強的國產(chǎn)替代邏輯。作為國家戰略性產(chǎn)業(yè),半導體行業(yè)是國家競爭力的重要組成部分,預計將持續受到政策和產(chǎn)業(yè)的推動(dòng)。從半導體到信息創(chuàng )新,從高端準備到新材料,特別是在光刻機這樣的關(guān)鍵環(huán)節,全面國產(chǎn)化是未來(lái)發(fā)展的必然趨勢。

    展望未來(lái),預期光刻機等關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題將得到解決,有助于進(jìn)一步推動(dòng)先進(jìn)制程的擴產(chǎn)。市場(chǎng)將密切關(guān)注下游終端需求的復蘇力度,以及國產(chǎn)算力芯片及設備等國產(chǎn)份額的提升節奏。同時(shí),也需關(guān)注潛在風(fēng)險因素對板塊的影響。整體而言,預計未來(lái)板塊將走向分化,那些能夠實(shí)現業(yè)績(jì)和兌現邏輯的公司將展現出更好的持續性。

    根據市場(chǎng)研究機構的數據,2019年中國進(jìn)口光刻機數量超過(guò)400臺,占全球市場(chǎng)份額的近30%。這表明,中國在光刻機技術(shù)方面已取得顯著(zhù)進(jìn)展,但仍需繼續努力,以提升國產(chǎn)光刻機的性能和市場(chǎng)占有率。

    政府出臺的一系列政策,如資金補助、稅收優(yōu)惠、人才培養等,為半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有力支持。這些政策有助于推動(dòng)國產(chǎn)光刻機的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,減少對外依賴(lài),提升國內半導體產(chǎn)業(yè)的整體競爭力。

    國產(chǎn)光刻機的崛起,預示著(zhù)市場(chǎng)將迎來(lái)新的活力和增長(cháng)潛力。

    *風(fēng)險提示:基金投資需謹慎。投資人應當閱讀《基金合同》《招募說(shuō)明書(shū)》《產(chǎn)品資料概要》等法律文件,了解基金的風(fēng)險收益特征,特別是特有風(fēng)險,并根據自身投資目的、投資經(jīng)驗、資產(chǎn)狀況等判斷是否和自身風(fēng)險承受能力相適應?;鸸芾砣顺兄Z以誠實(shí)信用、謹慎盡責的原則管理和運用基金資產(chǎn),但不保證基金一定盈利或本金不受損失。過(guò)往業(yè)績(jì)不預示其未來(lái)業(yè)績(jì),其他基金業(yè)績(jì)不構成本基金業(yè)績(jì)的保證。


    知識課:光刻機——中國半導體產(chǎn)業(yè)的“微雕革命”

    2024-04-09 來(lái)源:嘉實(shí)基金

    從另一個(gè)維度看:世界是由無(wú)數的0和1組成。

    芯片,作為處理這些海量0與1字符串數據的核心,其內部結構是由幾百萬(wàn)甚至幾十億個(gè)晶體管構成的復雜網(wǎng)絡(luò )。

    1961年,Fairchild(仙童公司)第一款芯片上只有4個(gè)晶體管。2024年,國際固態(tài)電路大會(huì )(ISSCC 2024)上,臺積電正式公布了先進(jìn)封裝技術(shù),該技術(shù)有望將晶體管數量從目前的1000億個(gè)提升到1萬(wàn)億個(gè)。

    從4到1萬(wàn)億,更強大的計算能力,卻只需要更低的運算成本,這或許正是摩爾定律的魅力所在。

    而維持摩爾定律的關(guān)鍵,正是光刻機。

    光刻機:芯片界的“微雕藝術(shù)家”

    想象一下,用筆在紙上繪制出僅頭發(fā)絲萬(wàn)分之一粗細的圖案,這需要極其精細的技藝和穩定的心神。光刻機正是在納米尺度上進(jìn)行這種精細創(chuàng )作的“藝術(shù)家”。光刻機利用激光作為“畫(huà)筆”,在硅片上“繪制”出復雜的電路圖案,其原理類(lèi)似于童年時(shí)代的陽(yáng)光印刷,通過(guò)光線(xiàn)的穿透和遮擋,將設計圖案精準地轉移到硅片上。

    光刻工藝是半導體制造中最為關(guān)鍵的環(huán)節之一,它通過(guò)圖形轉移技術(shù),為芯片的制造奠定了基礎。

    1)首先,晶圓經(jīng)過(guò)涂膠顯影設備的預處理,如脫水烘焙,在表面涂覆光刻膠,并進(jìn)行軟烘干;

    2)然后,晶圓被送入光刻機,經(jīng)過(guò)精確的掃描對準,光線(xiàn)透過(guò)掩膜版對光刻膠進(jìn)行曝光,形成所需的圖案;

    3)最后,晶圓返回涂膠顯影設備,通過(guò)顯影液處理,使曝光區域的光刻膠溶解,形成電路圖案,隨后進(jìn)行硬烘干和后續的刻蝕或離子注入工藝,完成整個(gè)光刻過(guò)程。


    光刻工藝不僅在芯片生產(chǎn)流程中占據核心地位,而且光刻機本身也是技術(shù)的集大成者。

    從成本角度來(lái)看,光刻工序在整個(gè)集成電路制造過(guò)程中占有重要比重,通常需要進(jìn)行20至30次,占總成本的30%,且耗費的時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的40%至60%。

    高技術(shù)壁壘下的“三國演義”市場(chǎng)格局

    目前,全球光刻機市場(chǎng)由ASML、Nikon和Canon三家公司主導,形成了高集中度的市場(chǎng)格局。2023年,這三家公司的光刻機銷(xiāo)售量分別為449臺、45臺和187臺,總計681臺,顯示了它們在市場(chǎng)上的主導地位。

    EUV(極紫外)光刻技術(shù)作為市場(chǎng)上最先進(jìn)的光刻技術(shù),能夠制造7nm及以下工藝的芯片。ASML作為全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機的公司,其技術(shù)領(lǐng)先地位為市場(chǎng)帶來(lái)了新的增長(cháng)點(diǎn)。同時(shí),其他光刻技術(shù)如ArF浸沒(méi)式光刻、多鏡頭投影光學(xué)系統等也在不斷發(fā)展,為市場(chǎng)提供了多樣化的選擇。

    市場(chǎng)數據統計顯示,2018至2022年間,三大光刻機供應商的營(yíng)收總額從123億美元增長(cháng)至198億美元,年復合增長(cháng)率(CAGR)達到了13%。預測數據指出,2017至2026年,全球光刻機市場(chǎng)規模將從約83億美元增長(cháng)至約310億美元,年復合增長(cháng)率(CAGR)大約為15.8%,總體呈上升趨勢。

    數據來(lái)源:Gartner,《半導體制造光刻機發(fā)展分析》,平安證券研究所

    創(chuàng )新驅動(dòng)著(zhù)芯片需求的增長(cháng)。隨著(zhù)人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、5G通信、自動(dòng)駕駛等新興技術(shù)的快速發(fā)展,對高性能芯片的需求不斷攀升。這些技術(shù)對芯片的計算能力、功耗和集成度提出了更高的要求,推動(dòng)著(zhù)半導體技術(shù)的持續進(jìn)步。

    芯片產(chǎn)業(yè)的供應鏈錯綜復雜,涉及全球范圍內的合作與分工。一顆芯片的誕生,可能始于加州或中國的工程師團隊,他們或使用美國設計軟件,根據英國公司提供的藍圖進(jìn)行設計。設計完成后,可能在中國臺灣的工廠(chǎng)進(jìn)行生產(chǎn),該工廠(chǎng)從日本采購超純硅片及特殊氣體,利用荷蘭公司制造的光刻機,將設計精準地刻畫(huà)在硅片上。這些高性能芯片在東南亞完成封裝與測試后,被運往全球各地,應用于手機、電腦、汽車(chē)等多種產(chǎn)品。

    芯片,已成為現代生活不可或缺的一部分。

    國產(chǎn)光刻機的漫長(cháng)征程

    在全球光刻機市場(chǎng)中,中國正逐漸成為一股不可忽視的力量。多年來(lái)的不懈努力,使得中國光刻機技術(shù)取得了顯著(zhù)進(jìn)步。2019年,上海微電子成功研發(fā)出我國首臺分辨率達到28納米的國產(chǎn)光刻機,打破了國際巨頭在高端光刻機市場(chǎng)的壟斷。在光刻機產(chǎn)業(yè)鏈上游,中國也取得了關(guān)鍵性的突破,尤其是在雙工件臺、光源和光學(xué)鏡頭等關(guān)鍵子系統方面。


    這些突破不僅為中國半導體產(chǎn)業(yè)注入了新的活力,也為全球光刻機市場(chǎng)帶來(lái)了新的競爭力量。嘉實(shí)基金大科技研究總監王貴重指出,半導體有很強的國產(chǎn)替代邏輯。作為國家戰略性產(chǎn)業(yè),半導體行業(yè)是國家競爭力的重要組成部分,預計將持續受到政策和產(chǎn)業(yè)的推動(dòng)。從半導體到信息創(chuàng )新,從高端準備到新材料,特別是在光刻機這樣的關(guān)鍵環(huán)節,全面國產(chǎn)化是未來(lái)發(fā)展的必然趨勢。

    展望未來(lái),預期光刻機等關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題將得到解決,有助于進(jìn)一步推動(dòng)先進(jìn)制程的擴產(chǎn)。市場(chǎng)將密切關(guān)注下游終端需求的復蘇力度,以及國產(chǎn)算力芯片及設備等國產(chǎn)份額的提升節奏。同時(shí),也需關(guān)注潛在風(fēng)險因素對板塊的影響。整體而言,預計未來(lái)板塊將走向分化,那些能夠實(shí)現業(yè)績(jì)和兌現邏輯的公司將展現出更好的持續性。

    根據市場(chǎng)研究機構的數據,2019年中國進(jìn)口光刻機數量超過(guò)400臺,占全球市場(chǎng)份額的近30%。這表明,中國在光刻機技術(shù)方面已取得顯著(zhù)進(jìn)展,但仍需繼續努力,以提升國產(chǎn)光刻機的性能和市場(chǎng)占有率。

    政府出臺的一系列政策,如資金補助、稅收優(yōu)惠、人才培養等,為半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有力支持。這些政策有助于推動(dòng)國產(chǎn)光刻機的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,減少對外依賴(lài),提升國內半導體產(chǎn)業(yè)的整體競爭力。

    國產(chǎn)光刻機的崛起,預示著(zhù)市場(chǎng)將迎來(lái)新的活力和增長(cháng)潛力。

    *風(fēng)險提示:基金投資需謹慎。投資人應當閱讀《基金合同》《招募說(shuō)明書(shū)》《產(chǎn)品資料概要》等法律文件,了解基金的風(fēng)險收益特征,特別是特有風(fēng)險,并根據自身投資目的、投資經(jīng)驗、資產(chǎn)狀況等判斷是否和自身風(fēng)險承受能力相適應?;鸸芾砣顺兄Z以誠實(shí)信用、謹慎盡責的原則管理和運用基金資產(chǎn),但不保證基金一定盈利或本金不受損失。過(guò)往業(yè)績(jì)不預示其未來(lái)業(yè)績(jì),其他基金業(yè)績(jì)不構成本基金業(yè)績(jì)的保證。


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